Передовые плазменные технологии

События
Компания Интек при поддержке специалистов Oxford Instruments Plasma Technology завершили пуско-наладку и технологические испытания установок Plasmalab на площадке лабораторного комплекса ООО «НТЦ ТПТ».
Новая установка PlasmaPro Estrelas100 глубокого травления кремния позволяет реализовать как Бош процесс, так и процесс криогенного травления.

Технологии плазмохимического осаждения PECVD, CVD-ICP

Oxford Instruments Plasma Technology предлагает различные варианты гибких и надежных технологий плазменного осаждения. Технологии PECVD и CVD-ICP реализуются в установках серии Plasmalab System различных модификаций.

Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы (PECVD) используется в большинстве стандартных приложений микроэлектроники, микромеханики и нанотехнологий. Типичная температура осаждения лежит в районе 300 0С.




Осаждение с источником индуктивно связанной плазмы позволяет существенно понизить температуру процесса по сравнению с PECVD технологией. Позволяет получать слои высококачественных диэлектриков при комнатной температуре подложки (~ 20 0C).




Новости
AdTech Photonics выбрала установки PlasmaPro 100 для производства лазерных линеек инфракрасного диапазона
Oxford Instruments Plasma Technology выполняет поставку своих установок для производителя вертикально излучающих лазеров Sino-semic