Передовые плазменные технологии

События
Компания Интек при поддержке специалистов Oxford Instruments Plasma Technology завершили пуско-наладку и технологические испытания установок Plasmalab на площадке лабораторного комплекса ООО «НТЦ ТПТ».
Новая установка PlasmaPro 1000 Astrea для производства LED и HBLED
Новая установка PlasmaPro Estrelas100 глубокого травления кремния позволяет реализовать как Бош процесс, так и процесс криогенного травления.

Вопросы и ответы

Так "Какова истинная температура подложки?" (название вашей заметки). Систематические исследования были проведены в 90-е годы (результаты - в книге "Теплообмен неравновесной плазмы с поверхностью". Физматлит, 2005). Болометрами температуру подложки давно не измеряют (об активных оптических методах термометрии в микротехнологии есть книга "Лазерная термометрия твердых тел". Физматлит, 2002). Об оксфордцах давно сказано: "Англичане - такие же люди, как все, но менее". Удачи.

В заметке расмотрен вопрос совершенствования системы охлаждения и теплового контатка подложек при групповой обработке в системе Plasmalab 133. Комплекс инженерных мероприятий обеспечил снижение температуры подложки в стандртных режимах травления от 250 С в системах предыдущего поколения до 100 С в модифицированных системах.

Oxford Instruments решил производственную задачу по улучшению конструкции собственных установок доступными и достаточными методами. С точки зрения методологии эксперимента всегда есть разница между фундаментальными исследовательскими работами в иститутах и университетах с последующими публикациями и практическими задачами коммерческой компании, совершенствующей свои серийные системы.

Спасибо за интерес к системам Oxford Plasma.

Можно ли приобрести одну систему Plasma lab 80 plus для проведения процессов RIE и PECVD?

Технически такая конфигурация может быть реализована с использованием переключения ВЧ напряжения с верхнего электрода (режим PECVD) на нижний (режим RIE). Однако проводить качественные процессы, скорее всего, не удастся. Одна из существенных причин — сильное различие рабочих потоков и давлений процесса в режимах PECVD и RIE. Как следствие, оптимизировать газораспределительный душ для работы в обоих режимах не удастся. Рекомендуется все же приобретать отдельную установку для RIE и отдельную для PECVD.

Следует отметить, что в некоторых случаях, возможно совмещение процессов травления во фторсодержащих смесях и плазмохимического осаждения в установках с источником индуктивно-связанной плазмы конфигурации ICP etch или CVD-ICP.

Задать вопрос:

Новости
Oxford Instruments Plasma Technology удваивает поставки оборудования для производства светодиодов.
Компания Oxford Instruments Plasma Technology разработала подложкодержатель для групповой обработки подложек с индивидуальной системой подвода гелия для эффективной стабилизации температуры при травлении.