Передовые плазменные технологии

События
Компания Интек при поддержке специалистов Oxford Instruments Plasma Technology завершили пуско-наладку и технологические испытания установок Plasmalab на площадке лабораторного комплекса ООО «НТЦ ТПТ».
Новая установка PlasmaPro Estrelas100 глубокого травления кремния позволяет реализовать как Бош процесс, так и процесс криогенного травления.

Ionfab

Системы серии Ionfab представляют собой гибкую платформу для реализации ионно-лучевых технологий травления и осаждения.

Во всех системах серии Ionfab применяются плазменные ВЧ источники с нейтрализатором пучка. В зависимости от приложения могут использоваться источники диаметром 15 или 35 см и различные варианты формирующих сеток для получения оптимального пространственного распределения тока пучка.

Система Infab 300 plus может быть сконфигурирована как для задач ионно-лучевого травления, так и для задач осаждения с распылением мишени ионным пучком.

Помимо специализированных конфигураций для травления и осаждения, система Ionfab 300 plus предоставляет уникальную возможность совмещения двух технологий в одной установке. В этом случае система оснащается двумя источниками ионов.

Дополнительный ионный источник может использоваться для травления или очистки поверхности подложки перед осаждением, а также для ионного ассистирования в процессе осаждения.

Система Optofab 3000 является специализированной версией Ionfab 300 для осаждения прецизионных многослойных оптических покрытий.

Основной модуль установки Ionfab 300 plus полностью совместим по стандарту MESC. Модули Ionfab 300 plus могут использоваться в кластерной системе серии System 100 Pro или других кластерных системах совместимых со стандартом MESC.

Конфигурации систем серии Ionfab для травления и осаждения

 

Ionfab 300 plus Etch tool

Ionfab 300 plus Deposition tool

Optofab 3000

Реализуемые технологии

IBE, RIBE, CAIBE

IBSD, IASD

IBSD

Загрузка

шлюз или кассета

шлюз или кассета

шлюз или кассета

Подложки

до 100 мм (SC версия)/ до 200 мм (LC версия)

до 100 мм (SC версия)/ до 200 мм (LC версия)

до 200 мм

Угол наклона подложки к оси

-900 - +750

-900 - +750

-900 - +750

Диапазон температур подложки

+10 - +300 0С

+10 - +300 0С

+10 - +300 0С

Ионный источник для травления, очистки.

ВЧ 15 см (SC версия)/ ВЧ 35 см (LC версия)

ВЧ 15 см (SC версия)/ ВЧ 35 см (LC версия)

нет

Ионный источник для распыления мишени

нет

ВЧ 15 см

ВЧ 15 см

Размер и количество мишеней

нет

до 4х200 мм

до 4х200 мм

Линий газоподачи с РРГ

до 8

до 8

до 8

Измеритель скорости осаждения на базе кварцевого кристалла

нет

да

да

Анализатор остаточной атмосферы (RGA)

опция

опция

опция

Масс-спектрометрия вторичных ионов (SIMS)

опция

опция

нет

Спектроско-пический оптический монитор (WLOM)

нет

опция

опция

Вакуумная система

ТМН/ крио- насос 

ТМН/ крио-насос

крио- насос

Управление

PC3000

PC3000

PC3000

 

Дополнительные сведения

Буклет на англ. языке

Буклет по оборудованию на рус. языке

Размеры и инсталляционные данные

Ionfab 300 plus 
Optofab 3000

Новости
AdTech Photonics выбрала установки PlasmaPro 100 для производства лазерных линеек инфракрасного диапазона
Oxford Instruments Plasma Technology выполняет поставку своих установок для производителя вертикально излучающих лазеров Sino-semic